La corrente degli ioni sputtering in un processo di sputtering è un fattore cruciale che determina l'efficienza e la qualità del processo di deposizione.
Che cos'è la corrente degli ioni sputtering? (Spiegato in 4 punti chiave)
1. Sputtering a diodo in corrente continua
Nello sputtering a diodi in corrente continua, viene applicata una tensione continua di 500-1000 V. Questa tensione accende un argon a bassa pressione.
Questa tensione accende un plasma di argon a bassa pressione tra un bersaglio e un substrato.
Gli ioni positivi di argon vengono quindi accelerati verso il bersaglio grazie a questa tensione.
Questa accelerazione provoca l'espulsione di atomi dal bersaglio e il loro deposito sul substrato.
2. Sputtering a radiofrequenza
Nello sputtering a radiofrequenza si utilizza una corrente alternata con frequenze intorno ai 14 MHz.
Questo metodo consente lo sputtering di materiali isolanti.
Gli elettroni possono essere accelerati per oscillare con la RF.
Gli ioni più pesanti reagiscono solo alla tensione media generata nel sistema RF.
Gli ioni sono influenzati dalla tensione di autobilanciamento (VDC) che li accelera verso il bersaglio.
Questa tensione di auto-bilanciamento si avvicina alla tensione equivalente applicata durante lo sputtering in corrente continua.
3. Relazione tra tensione e corrente
La corrente degli ioni di sputtering è direttamente correlata alla tensione applicata.
Nello sputtering a diodi in corrente continua, la corrente è determinata dalla tensione di 500-1000 V in corrente continua.
Nello sputtering RF, la corrente è determinata dalla tensione di auto-bias (VDC) che accelera gli ioni verso il bersaglio.
4. Precisione ed efficienza
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