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Purificatore di gas da laboratorio ad alta purezza per atmosfere inerti e gas di processo ultra puliti

Accessori e materiali di consumo per apparecchiature di analisi

Purificatore di gas da laboratorio ad alta purezza per atmosfere inerti e gas di processo ultra puliti

Numero articolo : KT-JH

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Livelli di Impurità in Uscita
O2 ≤ 0.05 ppm, H2O ≤ 0.1 ppm
Portata Nominale
10 – 100 L/min
Pressione di Esercizio del Gas
0.3 – 0.8 MPa
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Questo sistema di purificazione del gas ad alta purezza è progettato per eliminare le tracce di impurità dai gas inerti e di processo, offrendo ambienti ultra puliti essenziali per la ricerca di laboratorio sensibile e la produzione su scala pilota. Utilizzando colonne avanzate di deossigenazione catalitica multistadio e di adsorbimento a setaccio molecolare, l'apparecchiatura riduce costantemente i livelli di contaminazione da umidità (H2O) e ossigeno (O2) a valori inferiori a 0,1 parti per milione (ppm). Il suo design robusto offre una soluzione senza compromessi per le strutture che richiedono una generazione di gas puro su richiesta affidabile, stabile ed economica, senza dipendere da bombole di gas speciali ad alta purezza.

Progettata specificamente per ambienti di ricerca e produzione impegnativi, l'unità si integra perfettamente con forni a tubo ad alta temperatura, forni a muffola ad atmosfera controllata, reattori per deposizione chimica da fase vapore (CVD/PECVD), sistemi di contenimento a guanti (glove box) e sistemi di produzione additiva. I settori target includono la fabbricazione di semiconduttori, la ricerca sulle batterie agli ioni di litio, l'optoelettronica avanzata, la metallurgia di precisione e i laboratori di caratterizzazione dei catalizzatori. In tutti questi campi, prevenire l'ossidazione indesiderata, la nitritazione o la degradazione da umidità atmosferica è fondamentale per la riproducibilità sperimentale e la resa produttiva.

Progettato con particolare attenzione alla resilienza operativa continua, il sistema incorpora funzionalità di rigenerazione a doppia colonna completamente automatizzate, gruppi di valvole pneumatiche di grado industriale e strumentazione di monitoraggio ad alta precisione. L'architettura di gestione dei fluidi in acciaio inossidabile per carichi pesanti garantisce la tenuta stagna anche a pressioni operative elevate. Mantenendo una filtrazione e una rigenerazione continue senza interrompere l'erogazione del gas a valle, questa apparecchiatura offre a ricercatori e ingegneri di processo l'assoluta certezza del controllo atmosferico a lungo termine durante trattamenti termici prolungati e valutazioni analitiche.

Caratteristiche principali

  • Purificazione profonda del gas sotto il PPM: Incorpora la tecnologia getter catalitica e setacci molecolari sintetici per ottenere la deossigenazione e la disidratazione simultanee, riducendo in modo affidabile i livelli sia di ossigeno che di umidità a meno di 0,1 ppm (<100 ppb) in cicli operativi continui.
  • Funzionamento ciclico continuo a doppia colonna: Dispone di colonne di adsorbimento gemelle configurate per modalità alternate di purificazione e rigenerazione, garantendo un'erogazione a valle ininterrotta di gas ultra puro durante lunghi cicli termici ad alta temperatura.
  • Rigenerazione termica automatizzata: Dotato di camicie riscaldanti ad alta efficienza integrate e controlli programmabili di micro-spurgo che rigenerano completamente i letti di adsorbente saturi in modo automatico, senza richiedere lo smontaggio o la sostituzione manuale del catalizzatore.
  • Tubazioni interamente metalliche per vuoto ultra elevato (UHV): Costruito con tubi in acciaio inossidabile 316L elettrolucidato, giunti saldati orbitalmente e raccordi di tenuta frontale con guarnizione metallica (VCR/compressione) per garantire tassi di perdita di elio inferiori a 1×10⁻⁹ mbar·L/s.
  • Monitoraggio in tempo reale del punto di rugiada e dell'ossigeno: Integra sensori elettrochimici ad alta precisione per tracce di ossigeno e trasmettitori ceramici del punto di rugiada, fornendo una verifica digitale continua della qualità del gas direttamente sul display touch screen centrale.
  • Controllo PLC intelligente con HMI intuitivo: Utilizza un controllore a logica programmabile (PLC) industriale collegato a un'interfaccia uomo-macchina (HMI) a colori, offrendo regolazione automatica della pressione, routine di avvio/arresto con un solo tocco, diagnostica dei guasti e blocchi di sicurezza automatizzati.
  • Blocchi di sicurezza per sovrapressione e flusso: Progettato con meccanismi di sicurezza multilivello che includono valvole di intercettazione pneumatiche automatiche, valvole di sfogo della sovrapressione meccaniche e allarmi di soglia acustico-visivi per prevenire la contaminazione a valle o la sovrapressione del sistema.
  • Versatile compatibilità con gas di alimentazione: In grado di purificare un ampio spettro di gas tecnici e di trasporto, tra cui argon puro, azoto, elio e gas di formazione (forming gas), trasformando le bombole standard di grado industriale in linee di alimentazione di grado ricerca.

Applicazioni

Applicazione Descrizione Vantaggio principale
Semiconduttori ed epitassia a film sottile Eroga gas di trasporto (carrier gas) ultra puro come argon o azoto direttamente nelle camere CVD, PECVD e ALD durante la lavorazione dei wafer. Previene l'ossidazione del substrato, riduce al minimo i difetti di microforatura (pinhole) e assicura un'elevata uniformità del film attraverso delicati strati atomici.
Trattamento termico in atmosfera inerte Purifica i flussi di gas di protezione per forni a tubo, forni ad atmosfera sottovuoto e unità di sinterizzazione dentale che lavorano leghe reattive. Elimina la formazione di incrostazioni superficiali e la decarburazione su titanio, zirconio e superleghe refrattarie durante i cicli ad alta temperatura.
R&S di batterie al litio e a stato solido Condiziona le atmosfere protettive all'interno di glove box, linee di assemblaggio di celle pouch e stazioni di formulazione dell'elettrolita. Protegge gli anodi di litio metallico e le chimiche degli elettroliti solidi sensibili all'umidità da degradazioni catastrofiche causate dall'umidità.
Produzione di fibre ottiche e fotovoltaico Purifica l'atmosfera di processo durante la trafilatura delle preforme, la produzione di lingotti di silicio e la deposizione di strati di contatto passivati sui wafer. Previene le bande di assorbimento dell'ossidrile (OH) nel vetro di silice e preserva la durata dei vettori nelle celle solari ad alta efficienza.
Produzione additiva e stampa 3D Ricircola e raffina i gas di protezione inerti all'interno delle camere di costruzione a fusione laser selettiva (SLM) e a fusione a fascio elettronico (EBM). Mantiene livelli di ossigeno eccezionalmente bassi per prevenire spruzzi, porosità e infragilimento nella stampa di metalli reattivi.
Alimentazione di gas di trasporto per strumentazione analitica

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Purificatore di gas da laboratorio ad alta purezza per atmosfere inerti e gas di processo ultra puliti

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