Lo sputtering dell'oro produce tipicamente un film con uno spessore compreso tra 2 e 20 nm.
Questo intervallo è particolarmente importante per le applicazioni nella microscopia elettronica a scansione (SEM).
Nel SEM, il rivestimento serve a prevenire la carica del campione e a migliorare il rapporto segnale/rumore aumentando l'emissione di elettroni secondari.
Quanto è spesso l'oro spruzzato? 4 punti chiave da capire
1. Scopo dello sputtering in oro nel SEM
Al SEM, i campioni non conduttivi o scarsamente conduttivi possono accumulare campi elettrici statici che interferiscono con le immagini.
Per attenuare questo fenomeno, si applica un sottile strato di materiale conduttivo come l'oro mediante sputtering.
Questo processo consiste nel depositare un metallo su una superficie bombardandola con particelle energetiche, in genere in un ambiente ad alto vuoto.
Lo strato di metallo applicato aiuta a condurre la carica elettrica lontano dal campione, evitando la distorsione delle immagini SEM.
2. Spessore dell'oro spruzzato
I riferimenti forniti indicano che i film sputterati per applicazioni SEM hanno generalmente uno spessore compreso tra 2 e 20 nm.
Questo intervallo viene scelto per bilanciare l'esigenza di conduttività con quella di non oscurare i dettagli della superficie del campione.
Rivestimenti più spessi potrebbero introdurre artefatti o alterare le proprietà superficiali del campione, mentre rivestimenti più sottili potrebbero non fornire una conduttività adeguata.
3. Esempi e tecniche specifiche
Rivestimento in oro/palladio: Un esempio fornito descrive un wafer da 6 pollici rivestito con 3 nm di oro/palladio utilizzando impostazioni specifiche (800 V, 12 mA, gas argon e un vuoto di 0,004 bar).
Questo esempio dimostra la precisione ottenibile con lo sputtering, con un rivestimento uniforme su tutto il wafer.
Calcolo dello spessore del rivestimento: Un altro metodo menzionato utilizza tecniche interferometriche per calcolare lo spessore dei rivestimenti di Au/Pd a 2,5KV.
La formula fornita (Th = 7,5 I t) consente di stimare lo spessore del rivestimento (in angstrom) in base alla corrente (I in mA) e al tempo (t in minuti).
Questo metodo suggerisce che i tempi tipici di rivestimento potrebbero variare da 2 a 3 minuti con una corrente di 20 mA.
4. Limitazioni e idoneità dello sputtering in oro
Sebbene lo sputtering in oro sia efficace per molte applicazioni, va notato che l'oro non è ideale per l'imaging ad alto ingrandimento a causa dell'elevata resa di elettroni secondari e della formazione di grandi grani nel rivestimento.
Queste caratteristiche possono interferire con la visibilità dei dettagli dei campioni ad alto ingrandimento.
Pertanto, lo sputtering in oro è più adatto per l'imaging a basso ingrandimento, in genere inferiore a 5000×.
Continuate a esplorare, consultate i nostri esperti
Scoprite la precisione e la versatilità della tecnologia di sputtering in oro di KINTEK SOLUTION per le applicazioni SEM.
I nostri sistemi di sputtering avanzati garantiscono rivestimenti coerenti e precisi, ideali per il miglioramento della conduttività e la prevenzione della carica del campione.
Provate la differenza di qualità che si trova all'interno della nostra gamma di spessori da 2-20 nm, progettata per garantire chiarezza e dettagli nelle vostre immagini SEM.
Affidatevi a KINTEK SOLUTION per tutte le vostre esigenze di sputtering di precisione e portate le vostre immagini scientifiche a nuovi livelli.
Contattateci oggi stesso per scoprire come le nostre soluzioni possono far progredire i vostri sforzi di ricerca e sviluppo.
