Lo sputtering dell'oro produce in genere un film con uno spessore compreso tra 2 e 20 nm. Questo intervallo è particolarmente importante per le applicazioni nella microscopia elettronica a scansione (SEM), dove il rivestimento serve a prevenire la carica del campione e a migliorare il rapporto segnale/rumore aumentando l'emissione di elettroni secondari.
Spiegazione dettagliata:
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Scopo dello sputtering in oro nel SEM:
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Al SEM, i campioni non conduttivi o scarsamente conduttivi possono accumulare campi elettrici statici che interferiscono con le immagini. Per attenuare questo fenomeno, si applica un sottile strato di materiale conduttivo come l'oro mediante sputtering. Questo processo consiste nel depositare un metallo su una superficie bombardandola con particelle energetiche, in genere in un ambiente ad alto vuoto. Lo strato di metallo applicato aiuta a condurre la carica elettrica lontano dal campione, evitando distorsioni nelle immagini SEM.Spessore dello sputtering dell'oro:
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- I riferimenti forniti indicano che i film sputterati per applicazioni SEM hanno generalmente uno spessore compreso tra 2 e 20 nm. Questo intervallo viene scelto per bilanciare l'esigenza di conduttività con quella di non oscurare i dettagli della superficie del campione. Rivestimenti più spessi potrebbero introdurre artefatti o alterare le proprietà superficiali del campione, mentre rivestimenti più sottili potrebbero non fornire una conduttività adeguata.Esempi e tecniche specifiche:
- Rivestimento in oro/palladio: Un esempio fornito descrive un wafer da 6 pollici rivestito con 3 nm di oro/palladio utilizzando impostazioni specifiche (800 V, 12 mA, gas argon e un vuoto di 0,004 bar). Questo esempio dimostra la precisione ottenibile con lo sputtering, con un rivestimento uniforme su tutto il wafer.
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Calcolo dello spessore del rivestimento: Un altro metodo menzionato utilizza tecniche interferometriche per calcolare lo spessore dei rivestimenti di Au/Pd a 2,5KV. La formula fornita (Th = 7,5 I t) consente di stimare lo spessore del rivestimento (in angstrom) in base alla corrente (I in mA) e al tempo (t in minuti). Questo metodo suggerisce che i tempi tipici di rivestimento possono variare da 2 a 3 minuti con una corrente di 20 mA.
Limitazioni e idoneità dello sputtering dell'oro:
