L'argon è una scelta popolare per lo sputtering grazie a diversi motivi chiave.
4 motivi principali per cui l'argon viene utilizzato nello sputtering
Alto tasso di sputtering
L'argon ha un'elevata velocità di sputtering.
Questo perché è un gas raro con un'elevata massa atomica.
Un'elevata massa atomica significa che quando viene ionizzato e accelerato verso il bersaglio, l'argon trasferisce una quantità di moto significativa al momento dell'impatto.
Questo porta a un'efficiente espulsione degli atomi del bersaglio.
Natura inerte
L'argon è chimicamente inerte.
Ciò significa che non reagisce facilmente con altri elementi.
La sua natura inerte riduce al minimo il rischio di reazioni chimiche indesiderate tra il gas di sputtering e il materiale target o il film in crescita.
Ciò garantisce che il film depositato mantenga la composizione chimica e le proprietà desiderate.
Prezzo basso e disponibilità
L'argon è relativamente poco costoso rispetto ad altri gas rari come il kripton e lo xenon.
La sua ampia disponibilità e il suo basso costo lo rendono una scelta pratica per le applicazioni industriali e di laboratorio.
Questo fattore economico è significativo, soprattutto nei processi di produzione su larga scala, dove il costo dei materiali può incidere significativamente sul costo di produzione complessivo.
Disponibilità di gas puro
L'argon è disponibile in elevata purezza.
L'elevata purezza è essenziale per evitare che le impurità influiscano sulla qualità del film depositato.
Le impurità possono degradare le proprietà del film, come la conduttività elettrica o la trasparenza ottica.
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